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        金相分析试样的几种抛光方法
        双击自动滚屏 发布者:南京固琦分析仪器制造有限公司 发布时间:2012/3/2 阅读:2600

        金相分析时试样的抛光目的为去除金相磨面上因细磨而留下的磨痕,使之成为光滑、无痕的镜面。金相试样的抛光可分为机械抛光、电解抛光、化学抛光三类;蹬坠饧虮阋仔,应用较广。
         。1)机械抛光
          机械抛光是在专用的抛光机上进行的,抛光机主要是由电动机和抛光圆盘(Ф200300mm)组成,抛光盘转速为200600r/min以上。抛光盘上铺以细帆布、呢绒、丝绸等。抛光时在抛光盘上不断滴注抛光液。抛光液通常采用Al2O3、MgOCr2O3等细粉末(粒度约为0.31μm)在水中的悬浮液;蹬坠饩褪强考傅呐坠夥勰┯肽ッ婕洳喽阅ハ骱鸵貉棺饔美聪ズ鄣。操作时将试样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。抛光时间一般为35min。抛光后的试样,其磨面应光亮无痕,且石墨或夹杂物等不应抛掉或有曳尾现象。这时,试样先用清水冲诜 ,再用无水酒精清洗磨面,最后用吹风机吹干。
         。2)电解抛光
          电解抛光是利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光高的一种方法。将试样浸入电解液中作阳极,用铝片或不锈钢片作阴极,使试样与阴极之间保持一定距离(2030mm),接通直流电源。当电流密度足够时,试样磨面即由于电化学作用而发生选择性溶解,从而获得光滑平整的表面。这种方法的优点是速度快,只产生纯化学的溶解作用而无机械力的影响,因此,可避免在机械抛光时可能引起的表层金属的塑性变形,从而能更确切地显示真实的金相组织。但电解抛光操作时工艺规程不易控制。
         。3)化学抛光
          化学抛光的实质与电解抛光相类似,也是一个表层溶解过程。它是一种将化学试剂涂在试样表面上约几秒至几分钟,依靠化学腐蚀作用使表面发生选择性溶解,从而得到光滑平整的表面的方法。

           以上几种金相抛光的方法供大家参考,欢迎来电我公司,我公司将竭诚为你解答各类技术问题。

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